Микрочип не получился

Вооруженным глазом #12

На этом снимке, сделанном с помощью электронного микроскопа - результат неудачного травления образца из кремния.

В микроэлектронном производстве повсеместно используют плазмохимическое травление.

Этот процесс происходит так:
- кремниевая подложка помещается в вакуумную камеру. Ее участки, которые необходимо защитить от травления, "укрыты" его устойчивым к нему материалом;
- в камеру напускаются различные газы: часто используют фторсодержащие SF6 или CF4. Сами по себе эти газы не очень реакционно способны, потому что активный фтор уже химически связан с углеродом или серой"
- в камеру подается напряжение, там зажигается разряд плазмы. В разряде образовываются различные ионы, в том числе и фтор;
- ускоряемые электрическим полем, ионы бомбардируют подложку;
- фтор - очень активный окислитель. Соединяясь с кремнием непокрытой части подложки он образует газ, который откачивается из вакуумной камеры насосом. Это и есть травление.

В данном случае слой этого защитного материала оказался слишком тонким и не выдержал плазменного процесса. Зато получилась вот такая красивая структура: кремниевый нанодворец.